icc布线时的金属层怎么分配会比较好？(TSMC65nm, 9Metal)

邓小力 · 发表于 2022-1-4 15:00:00

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如题所示，我最近在学习icc，但是找到的教程工艺是SMIC55nm 7层金属的，和我们课题组使用的不太一样，所以很多地方需要自己修改一下。
但是对于布线时金属层的分布怎么安排确实摸不着头脑，TSMC65nm也是standard cell使用metal1，然后VDD和GND层使用最高层metal8和metal9吗？然后其他布线走metal2-metal7？不太确定这个是不是一个比较好的走线方案，所以想来问一下各位大佬~谢谢！

邓小力 · 发表于 2022-1-4 15:34:32

还是说M8和M9这种高层金属一般都不用~

AnalogICrookie · 发表于 2022-12-5 20:43:36

邓小力发表于 2022-1-4 15:34
还是说M8和M9这种高层金属一般都不用~

楼主现在懂了么，我最近也刚接触版图，用的tsmc65nm工艺，布线时金属层怎么分配呢?

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