光刻胶是正胶还是负胶

qq416675763 · 发表于 2021-12-17 17:56:49

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求助求助，同一种mask在不同工艺上用的光刻胶是一样的吗？
PM这层在TSMC 55用的是负胶，在0.18工艺上用的时候是正胶还是负胶？

ahhanliang · 发表于 2022-1-4 14:58:00

不一定，用正胶还是负胶是由fab决定的，比如28nm的同一道layer（举例说S/D implant），开始用的正胶，在工艺开发过程中发现了光阻的residue（因为cd control等原因曝光能量小，在比较深的trench里曝光不彻底），可能就会重新出mask用负胶做

qq416675763 · 发表于 2022-1-5 16:43:22

ahhanliang 发表于 2022-1-4 14:58
不一定，用正胶还是负胶是由fab决定的，比如28nm的同一道layer（举例说S/D implant），开始用的正胶，在工 ...

感谢感谢~

ykpop · 发表于 2022-3-6 10:26:07

感谢分享

hankex · 发表于 2022-3-6 11:16:09

多謝分享.

wcnimei · 发表于 2022-10-14 16:10:52

了解

axel · 发表于 2022-10-14 22:35:07

1正胶和负胶的CD有区别，联系供货商确认，
2版图基本相反，有些特定区域要修正

xl518 · 发表于 2023-9-28 16:52:40

我们提供光刻胶材料，有兴趣的话可以聊聊

18800261604 · 发表于 2023-11-1 10:52:01

可以

小煤球joy · 发表于 2023-12-5 14:44:10

xl518 发表于 2023-9-28 16:52
我们提供光刻胶材料，有兴趣的话可以聊聊

牛啊你都跑这里来了

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