EMIR的time window选取技巧

ZMOS · 发表于 2021-8-19 20:55:56

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跑EM/IR是小工艺制程必须的，每一层layer厚度在变薄，寄生变大、耐压和电流能力减弱，对后端布局是一个挑战。针对EM/IR flow，有些问题和大家讨论：1.EM/IR的仿真场景有哪些？上下电？大功耗阶段。。。。
2.EM/IR的时间窗口截取策略？必须要稳定后？有没有可能采取一些方式加快电路的稳定进而加快收敛？
3.EM/IR仿真在截取的时间窗口外是在跑前仿真吗？如仿真时间设置为0-10us，EM截取的时间为8u-9.5u，那8u之前和9.5u之后跑的是前仿真吗？
4.EM/IR抽取寄生和仿真时的corner以及温度的组合是怎么样比较合理？

benjude · 发表于 2023-2-6 09:22:56

180nm工艺需要跑吗

ZMOS · 发表于 2023-2-6 09:40:13

benjude 发表于 2023-2-6 09:22
180nm工艺需要跑吗

由产品本身要求决定

[讨论] EMIR的time window选取技巧

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