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查看: 3458|回复: 16

[求助] 测量了一款芯片数模地之间电阻十几M欧姆?他们会是怎么隔离开的?

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发表于 2021-5-18 21:56:50 | 显示全部楼层 |阅读模式

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逆向了一款芯片,用的单n阱。18um工艺,我们的芯片出来DGND和AGND阻值只有十几欧姆,原版的芯片阻值却是十几MΩ。
衬底不是数模都是共用的吗?为什么他们的GND之间的阻值能那么大?
我们为了尽量隔离GND做的几个工作:
1.数模之间拉开了一定距离,不大10um距离;

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2.cutcell隔开了不同GND,用了双向二极管接起来了
image.png
image.png
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3.分别走线拉到不同的PAD上
4.拉了一条接AGND的p+保护环(这个是不是有问题)
还有什么措施没做好吗?
还是有个高转低模块不小心有把衬底接了不同GND电位又放的太近导致衬底在那边导通了?

image.png
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发表于 2021-5-18 22:22:26 | 显示全部楼层
大概人家使用的并不是单井工艺啊,所以D和A 的gnd可以完全隔离
发表于 2021-5-19 08:24:42 | 显示全部楼层
数字的衬底接触单独布线接模拟地就可以了
发表于 2021-5-19 12:00:12 | 显示全部楼层
有Deep Nwell 就可以
发表于 2021-5-19 16:49:31 | 显示全部楼层
我也觉得他们的两个地,一个是psub,另一个是做在Deep N-well里的
 楼主| 发表于 2021-5-19 22:13:19 | 显示全部楼层


fengluan83 发表于 2021-5-18 22:22
大概人家使用的并不是单井工艺啊,所以D和A 的gnd可以完全隔离


那如果是单n阱工艺,不加dnw,是不是怎么做也不会把衬底隔离开?
 楼主| 发表于 2021-5-19 22:40:28 | 显示全部楼层


遍体林香 发表于 2021-5-19 16:49
我也觉得他们的两个地,一个是psub,另一个是做在Deep N-well里的


加dnw的方式我还没有画过,只照着画过里边几个dnw的mos管,那请教下整体把数字或者模拟做在dnw里,是怎么做,用dnw层框起来吗?
 楼主| 发表于 2021-5-19 22:42:45 | 显示全部楼层


totowo 发表于 2021-5-19 12:00
有Deep Nwell 就可以


请教一下这个dnw应该怎么用?是这个吗?给数字框起来?
image.png
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 楼主| 发表于 2021-5-19 22:52:57 | 显示全部楼层


myee 发表于 2021-5-19 08:24
数字的衬底接触单独布线接模拟地就可以了


我们就是数字单独的DGND,模拟单独的AGND,分别拉到不同PAD上的,但实际好像没有用,衬底不是都是一个衬底吗?这样做理论上会有效果吗?
 楼主| 发表于 2021-5-19 22:55:38 | 显示全部楼层


fengluan83 发表于 2021-5-18 22:22
大概人家使用的并不是单井工艺啊,所以D和A 的gnd可以完全隔离


如果是单n阱,是不是AGND和DGND之间阻值很小是正常的?我们之前做的几款全都是阻值很小,量了国外的几款芯片,有的是隔离开的,有的也是阻值很小。可能是高精度,对噪声要求严格的会采取一定方法隔离吧,现在领导就觉得是版图的锅;
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