请问个Mask 逻辑运算层Layer的问题

zhumingzhu · 发表于 2020-2-19 14:35:03

tuohong 发表于 2020-2-19 09:59
楼主你的工艺中应该是有这层mask的，不要被2楼误导。
在相对不太复杂的工艺中，确实有这样的设置，目的是牺 ...

请教下，为什么会损失场氧上的poly电阻？

ericking0 · 发表于 2020-2-19 19:30:36

tuohong 发表于 2020-2-19 09:59
楼主你的工艺中应该是有这层mask的，不要被2楼误导。
在相对不太复杂的工艺中，确实有这样的设置，目的是牺 ...

我只是觉得有的器件，比如放在PW上的native，和放在PSUB上的native，反正native都是一个添头，如果解耦mask的话，多几条DRC，然后多一种器件，听起来还是蛮划算的；
而且不只是PW的mask，还有什么LDD的mask，感觉完全没比较通过逻辑运算来得到；

demonhunter · 发表于 2023-3-17 08:14:39

个人认为这只是早期工艺的简化做法。印象中有工艺厂既用到正胶也用到反胶，这样就可以省掉一层Mask，但工艺层次不少。反胶好像有缺点，后来不用了。

Lucky_Johnny · 发表于 2023-12-31 22:04:15

tuohong 发表于 2020-2-19 09:59
楼主你的工艺中应该是有这层mask的，不要被2楼误导。
在相对不太复杂的工艺中，确实有这样的设置，目的是牺 ...

既是PW又是NW不清楚物理上有没有意义？

既不是PW又不是NW，这地方做出来的期间是不是叫做native device，这种device好像用的不是很多？

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