请问版图vdd低于原理图vdd，衬底与vdd相连却不相等是为什么？

江公补过 · 发表于 2018-10-25 23:16:29

您需要登录才可以下载或查看，没有账号？注册

x

版图部分

原理图部分

做的LDO，加通孔增金属宽度都不管用，衬底和电压是相连的不知道为啥还不一样，

账户已登录 · 发表于 2018-10-26 10:30:10

什么工艺啊，如果加宽金属和通孔没用的话你试试把你的nwell拉大一点，弄个完整的nring，nwell别搞成锯齿状，小工艺因为这个nwell的问题会引入WPE问题

ZGP123456 · 发表于 2018-10-26 11:35:31

等着看答案

sanmuyang · 发表于 2018-10-26 13:33:36

听2楼的，这版图看的我强迫症都要出来了

江公补过 · 发表于 2018-10-26 14:34:56

回复 2# 账户已登录

90nm工艺，我去试试。。

江公补过 · 发表于 2018-10-26 23:11:46

回复 2# 账户已登录

不行啊。。。没变化啊 ]1F31$ZH3}CWW8B23YYQO_8.png

，这么搞的对不对，有事耽误了晚上才弄得

[求助] 请问版图vdd低于原理图vdd，衬底与vdd相连却不相等是为什么？