狭义上讲,天线效应是金属上积累的电荷击穿栅氧化层,但本质其实是击穿了“绝缘层”。对于MOS管来讲,绝缘层是栅氧化物,天线效应通过向上跳线解决,但是对于MIM电容来说,绝缘层介于最高层和次高层金属之间,没有办法跳到更高层金属,此时为了避免天线效应击穿MIM的绝缘层,需要使用向下跳线法来解决MIM的天线效应。
SMIC的design rule中关于天线效应部分明确提到了“Antenna Ratio rules for GT”(gate)和“Antenna Ratio rules for MIM”(Metal-Insulator-Metal)。