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查看: 3626|回复: 2

[讨论] globalfoundries 工艺中的DUMMY问题

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发表于 2016-8-19 11:07:45 | 显示全部楼层 |阅读模式

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各位大侠:
有谁用过globalfoundries的工艺,近期有个项目遇到ACT ,POLY密度不满足,需要添加dummy的问题,
1、工艺要求poly dummy的大小为5.6X5.6  ACT DUMMY的大下为5X5,并且要求poly dummy 与ACT DUMMY必须重叠在一起,这是出于什么考虑?

2、工艺还要去POLY DUMMY不能加在M1,M2信号线下面,但如果不加在M1,M2下面,poly的密度就无法满足,现在的情况是foundry要求密度必须满足,那么信号线下加POLY DUMMY,影响到底有多大?谁有相关的经验可否参考,如果要后仿,能仿的出来不?

谢谢
发表于 2016-8-20 13:52:09 | 显示全部楼层
关于第一个问题,一般先进工艺都是这么做的,加dummy fab应该会提供dummy rule,不至于手动加吧。至于POLY/ACT必须要叠在一起的原因很可能是为了避免形成MOS,带来各种问题,poly和act dummy总是互相影响,不过这个原因不是特别确定,可以问下foundry。
第二个问题,加在信号线下肯定会有影响,因为M1下面有POLY,会造成M1翘曲,从而影响M1的RC模型。至于影响有多大就看工艺的RC model了。如果有条件,dummy之后过一下后仿,结果没问题就ok了。
 楼主| 发表于 2016-8-20 18:30:41 | 显示全部楼层
谢谢您的回复,对于第2个问题,metal线下加了POLY DUMMY那部分 相关的寄生参数,能提取的出来不?如果做后仿的话
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