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查看: 2718|回复: 9

[求助] 28nm以下工艺时,core域的电源到地的decouple cap实现求助

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发表于 2016-8-3 13:26:40 | 显示全部楼层 |阅读模式

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decoupled_cap.PNG
我现在在做28nm的项目,要用到core域的电源到地的decouple电容,不太理解以上架构实现的decouple cap的具体原理,以及它所涉及的Q值的推导,哪位大神能帮忙解答下,谢谢了。
 楼主| 发表于 2016-8-3 14:42:50 | 显示全部楼层
顶!!!!!!!!
 楼主| 发表于 2016-8-3 18:41:36 | 显示全部楼层
顶一下!!!
 楼主| 发表于 2016-8-3 21:54:42 | 显示全部楼层
哪位大神帮忙解答下!!谢谢!
发表于 2016-8-4 16:50:25 | 显示全部楼层
因为2个电容都串联了管子构成的电阻
发表于 2016-8-11 16:18:37 | 显示全部楼层
看尺寸不像decap,像是dummy
发表于 2017-1-23 18:00:41 | 显示全部楼层




http://bbs.eetop.cn/thread-620837-1-2.html


    28nm  breakdown 多少 ?
发表于 2017-1-24 18:56:15 | 显示全部楼层
没有人这么做decap吧
发表于 2017-1-24 19:15:14 | 显示全部楼层
顶一下!
发表于 2017-1-25 00:08:56 | 显示全部楼层
是decap for standard cell filler
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