弱问：W/L一般要设置为整数吗？

hank_deng

看到一些资料，上面宽长比都是整数，但是在仿真的时候感觉有时候某些MOS管的宽长比设置为小数更简单容易。
请问一般要设置成整数吗？小数的话会有什么不利的影响？比如Layout的时候

like027

是要设置成小数。因为光刻工艺都是以整数倍调整W，L的长度的。

hank_deng

原帖由 like027 于 2007-5-13 23:21 发表
是要设置成小数。因为光刻工艺都是以整数倍调整W，L的长度的。

L的调整也要整数倍啊？
不是整数倍的话会有什么不好？

[ 本帖最后由 hank_deng 于 2007-5-14 12:23 编辑 ]

jiangnancai

我觉得没这个要求吧

铁金

我不是做IC设计的，正在学。我想在流片厂的工艺库里会不会有这一参数呢...
盼高手指教。

flash3

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W/L, (VGS-VTH), VDS ..是要一起考慮的....

W/L不一定要設為整數倍...

通常在analog circuit design, 所使用的L至少是 5~10 X minimum channel length, 以降低LD (side defuse)及channel-length modulation effect

不過W or L取整數對layout是比較好畫的

vdslafe

原帖由 flash3 于 2007-5-15 12:47 发表
........

W/L, (VGS-VTH), VDS ..是要一起考慮的....

W/L不一定要設為整數倍...

通常在analog circuit design, 所使用的L至少是 5~10 X minimum channel length, 以降低LD (side defuse)及channel-len ...

这个要看情况吧？ 看是什么device, “至少是5~10x" 太武断了

flash3

非常贊成vdslafe兄的見解. 的確是要看情形而定.
不過在analog IC design中,有很多case是要注意device matching,
就此點而言,L用大一點是比較好.當然這樣就相對降低了driving current or gm,需要從其他參數補償回來.
所以大家在看paper或是patent時,L and W都會取比較大的值.
而且現在的設計都是用logic process,用minimum size device,其performance variation會蠻大的(die-to-die on the same wafer,
wafer-to-wafer in the same lot, and lot-to-lot for the same process).
加上short channel effect 及narrow width effect,我個人是很少用minimum length/minimum width做設計的
(就我在flash memory設計~10 yr.的經驗而言,未必適合任何的IC design)

pol_sky

还是那句老话,最好的模拟电路往往用的不是最小的L尺寸!

vlog

我有个问题想请教一下，也是关于W/L的:
假如是0.18um的工艺，那么foundry所支持的最后尺寸就是0.18um吗?
W和Ｌ都必须取0.18um的整数倍吗？
谢谢