两级全差分放大器monte carlo仿真问题

duke2050 · 发表于 2015-5-22 09:52:00

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本人在做两级全差分放大器设计时，就是普通的两级opamp结构，在进行corner仿真时，放大器DC增益变化不大（3-4dB）。但是在进行monte carlo仿真时(process&mismatch），此时放大器的DC增益变化很大（20dB的变化）。请问有什么比较好的办法可以解决这个问题吗？

dtt0000 · 发表于 2015-5-24 12:42:42

monte carlo仿mismatch

duke2050 · 发表于 2015-5-25 09:28:36

回复 2# dtt0000

仿过mismatch，但是增益变化范围很大，工艺库的mismatch应该是一个很大范围的偏差吧

ralphtwtw · 发表于 2017-3-13 11:28:15

工艺库的mismatch !!!

ralphtwtw · 发表于 2018-7-8 17:14:32

check mc model !!!~~~

i0977454522 · 发表于 2022-12-16 16:25:28

thanks

Sarahlln · 发表于 2023-1-18 14:57:26

请问楼主解决了嘛？我尝试增大了每个管子的尺寸，基本能做到finger W在10u,L在8u,再大就超过工艺规定尺寸了，但是对MC仿真结果影响不大，不知道哪里出了问题

mada147258 · 发表于 2023-5-22 21:29:17

共模反馈的问题

kangnaixin · 发表于 2023-10-16 13:57:32

请问楼主解决了吗？

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