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[讨论] GF55nm工艺阈值电压

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发表于 2015-5-15 12:08:12 | 显示全部楼层 |阅读模式

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最近在用GF55nm工艺设计电路,在1.2V电源电压下,发现正常的MOS管的阈值电压在0.55V左右,而且工艺库中提供的低阈值MOS管的阈值电压也有0.5V,这正常吗?
 楼主| 发表于 2015-5-15 14:39:51 | 显示全部楼层
自顶。。。
发表于 2015-5-15 14:54:04 | 显示全部楼层
回复 1# yunyi009

低阈值一般只有0.35-0.4,有的甚至0.3左右, 90nm以下工艺
 楼主| 发表于 2015-5-15 16:55:33 | 显示全部楼层
回复 3# semico_ljj


   对啊  我也觉着应该是这样  可是对于这个工艺来说,采用最小尺寸晶体管时,120n/60n,阈值电压在0.5以上,但是如果尺寸增大到了um级,例如2u/1u,阈值电压就降到了0.4左右,难道尺寸对阈值电压的影响有这么大吗。。。
发表于 2015-5-16 15:32:19 | 显示全部楼层
要区分gp工艺还是lp工艺,55nm 1.2V power supply应该是low power 工艺,Vth高一点是正常的
发表于 2016-4-22 15:58:39 | 显示全部楼层
回复 5# fuyibin


    我最近也在用umc55nm lp 工艺,发现他的vth真的很高,感觉不应该呀,这么大的公司。比smic130 的还大。
发表于 2016-4-22 16:41:41 | 显示全部楼层
Very reasonable and useful. Thank you so much!
发表于 2016-7-29 20:59:37 | 显示全部楼层
坐等答案!!
发表于 2016-7-30 09:40:14 | 显示全部楼层
回复 1# yunyi009

不可能这么高
发表于 2018-5-29 17:19:34 | 显示全部楼层
不可能这么高
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