较宽的金属层次刻蚀问题

版图漫游者 · 发表于 2015-1-19 11:29:23

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某些0.6的工艺会存在这样一个版图设计规则同一层金属，如果金属宽度小于10um，那么金属之间的最小间距为0.8um
如果金属宽度大于10um，那么金属之间的最小间距为1.5um
然而某些0.6的工艺就不会存在这样一个版图设计规则

个人认为无论金属宽度为多少，其面对的光刻条件（光刻胶厚度，曝光时间、刻蚀时间）都是一样的，金属刻蚀是刻蚀氧化层，个人认为与负载效应关系不大，因此请教各位大神，这是由于什么问题导致的？

ygyg100 · 发表于 2015-1-19 13:08:05

回复 1# 版图漫游者

金属刻蚀，刻蚀的是金属本身。。。
这个规则主要是过刻蚀有关吧，宽度小的金属之间，或者间距比较大的金属之间，过刻蚀比较大，而宽度大的金属之间过刻蚀小，所以宽度大的金属之间如果间距小了，容易出现刻蚀不净，造成金属相连。

版图漫游者 · 发表于 2015-1-20 09:59:30

回复 2# ygyg100

1、金属刻蚀，刻蚀的是金属本身。。。    我想表达的意思是金属为反版，刻蚀区域为不需要的区域，因此这样的情况就会与负载效应表达的含义无关，不好意思
2、这个规则主要是过刻蚀有关吧，宽度小的金属之间，或者间距比较大的金属之间，过刻蚀比较大，而宽度大的金属之间过刻蚀小，所以宽度大的金属之间如果间距小了，容易出现刻蚀不净，造成金属相连
   过刻蚀的问题实际上就是刻蚀时间问题，完全可以忽略各向异性的小偏差，如果考虑到终点检测，这个问题是可以避免的。
   现在的问题是，有很多工艺线存在这条宽铝规则，也有相当一部分工艺线不存在这条规则，因此我浅显的认为应该是机器上的问题，只是不知道是哪一个步骤会导致该问题的发生

motofatfat · 发表于 2015-1-20 10:02:31

製程能力 , 同樣做 IC

motofatfat · 发表于 2015-1-20 10:06:46

（光刻胶厚度，曝光时间、刻蚀时间）可調整
金属刻蚀是刻蚀氧化层 ,事實上
是先刻蚀氧化层, 再刻蚀金属
有好幾個步驟
看製程能力 , 也考慮良率

[求助] 较宽的金属层次刻蚀问题

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