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 楼主 |
发表于 2014-7-15 13:37:42
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谢谢各位的回复,对的!我可能没有把情况说清楚,再补充一下: 
此工艺不是普通的CMOS工艺, 
BJT,CMOS等都有,二极管phvnw, hvpwhvnwnbl都有。 
PAD1的正常工作电压范围:(-9V~22V), 
MOS管的栅氧承受电压<7V, 
VDD=2~5V, 
我们也尝试在VDD与VSS之间加5V测漏电时,在PAD1上加一外加电压,电压值从0~5V变化, 
试图改变芯片内部的高阻节点(悬浮节点)的点位,结果发现漏电流没有变化!说明此漏电流与 
PAD1的电位没有关系。 
还有我们在宜硕打ESD时, 
用3个样品芯片PAD1对VSS打2000V正压时,有2个样品会VDD与VSS之间漏电,还有1片是好的(不漏电); 
用3个样品芯片PAD1对VSS打1500V正压时,有1个样品会VDD与VSS之间漏电,还有2片是好的(不漏电); 
用3个样品芯片PAD1对VSS打1000V正压时,3片都是好的(不漏电); 
后来又重复进行了此实验打2000V,共有5片芯片漏电, 
而且5个样品芯片漏电在VDD=3V时,漏电流分别为:194uA,193uA,194uA,195uA,196uA(即样片之间误差很小,只有1到2uA的区别) 
改变VDD=5V时,此5个样品芯片漏电流都一样为:537uA(样片之间没有区别)。 
即漏电与VDD之间不是正比例的关系,倒是有点平方关系(即:抛物线曲线),因为5/3不等于537/194. 
而且漏电流的值可以重复,说明不是普通的击穿导致的漏电流(如果是普通的击穿导致VDD与VSS漏电流,则 
漏电流值不可重复!) 
对了,上面的附图是我能从芯片schematic中找到的PAD1与VDD最直接的连接关系了,不知道有没有其他的 
耦合方式导致漏电了?  |   
 
 
 
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