[求助]反相器 Calibre LVS报错

jackchen012

刚开始学习版图，简单画了个反相器，好不容易过了DRC，现在LVS又卡住了。LVS report 如下，还请高手指导，谢谢！
Error:    Instances of different types or subtypes were matched.
LAYOUT CELL NAME:         inv
SOURCE CELL NAME:         inv
--------------------------------------------------------------------------------------------------------------
INITIAL NUMBERS OF OBJECTS
--------------------------
                Layout    Source         Component Type
                ------    ------         --------------
Ports:              4         4
Nets:               4         4
Instances:          0         1    *    MN (4 pins)
                     1         0    *    n11lvt_ckt (4 pins)
                     0         1    *    MP (4 pins)
                     1         0    *    p11lvt_ckt (4 pins)
                ------    ------
Total Inst:         2         2

NUMBERS OF OBJECTS AFTER TRANSFORMATION
---------------------------------------
                Layout    Source         Component Type
                ------    ------         --------------
Ports:              4         4
Nets:               4         4
Instances:          1         1         _invv (4 pins): in out sup1 sup2
                ------    ------
Total Inst:         1         1

       * = Number of objects in layout different from number in source.

**************************************************************************************************************
                                 INCORRECT OBJECTS
**************************************************************************************************************

LEGEND:
-------
  ne  = Naming Error (same layout name found in source
        circuit, but object was matched otherwise).

**************************************************************************************************************
                                 INCORRECT INSTANCES
DISC#  LAYOUT NAME                                               SOURCE NAME
**************************************************************************************************************
  1    (_invv)                                                   (_invv)
         bad component type
       Devices:
         X1(-2.080,-2.020)  p11lvt_ckt                             MX1  MP(P11LVT_CKT)
         X0(-2.080,-2.876)  n11lvt_ckt                             MX0  MN(N11LVT_CKT)

**************************************************************************************************************
                               INFORMATION AND WARNINGS
**************************************************************************************************************

                  Matched    Matched    Unmatched    Unmatched    Component
                   Layout     Source       Layout       Source    Type
                  -------    -------    ---------    ---------    ---------
   Ports:               4          4            0            0
   Nets:                4          4            0            0
   Instances:           1          1            0            0    _invv
                  -------    -------    ---------    ---------
   Total Inst:          1          1            0            0

o Initial Correspondence Points:
   Ports:        VDD GND IN OUT

**************************************************************************************************************
                                         SUMMARY
**************************************************************************************************************
Total CPU Time:      0 sec
Total Elapsed Time:  0 sec

小YY

某个标示层没画吧，具体是哪层要看layout rule

hitmic

你高压层没画吧？找个库里你要画的N管和P管类型，看看layout层次结构

jackchen012

回复 2# 小YY


    问题解决了，是工艺库的问题。感谢你提出的排错思路，谢谢！

jackchen012

回复 3# hitmic


    问题解决了，是工艺库没有配好，搞乱了。这个是Low Vt的。感谢你提出的排错思路，谢谢！