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速度饱和效应主要是因为Vgs-Vth太大了,前提是管子工作在saturation区域(vds>vgs-vth)。 例如:将二极管接法的管子扫描Vgs,管子依次经历,截止区,弱反型区,强反型区和速度饱和区。 对于工作在饱和区的管子其沟道电场强度为(Vgs-Vth)/Leff,该电场太大,则沟道载流子速度饱和了。 大vds将把沟道截止点推向源区,使得Leff变小,但真正决定因素还是Vgs-Vth。 Vgs-Vth小于80mv时,饱和时管子工作在弱反型,100mv-400mv左右工作在强反型,400mv+则速度饱和了(前提:管子工作在饱和区Vds>Vgs-Vth)。
图1 用于解释速度饱和效应的示意图,截止点的电势为Vgs-Vth。 推导电流公式时,我用的是单位长度平均载流子浓度乘以速度的方式,省去了繁琐的积分方法,当电场强度(Vgs-Vth)/Leff超过临界值时,沟道电子速度是u*(Vgs-Vth)/Leff变为恒定值Vsat。平方率退化为一次方率,这就是告诉大家,为什么你用平方律手算的W,L这么不准的原因了。
关键是要理解,饱和区管子的电场强度是(Vgs-Vth)/Leff,沟道电子速度是u*(Vgs-Vth)/Leff,当(Vgs-Vth)/Leff太大时,速度饱和了(半导体的性质)。
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