40nm

XIDIANCAD2 · 发表于 2013-4-17 21:51:10

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40nm工艺，两种环境 1：0.99v -40度 2: 0.99v 125度。为什么第一种工作环境比第二种工作环境还worst的呀？不是电压越低，温度越高，环境最差吗？

sjtusonic · 发表于 2013-4-18 09:11:08

温度反型了吧？越冷越慢

muylor · 发表于 2013-4-18 09:55:43

本来是温度越低，速度越慢的，但深亚微米下温度反转效应是说， -40度时比-0度时要快。
你写的电压也不对吧，wc电压应该是0.81v （90%标准电压）

sjtusonic · 发表于 2013-4-18 11:16:42

回复 3# muylor

质疑楼上，应该是这样子吧：

传统工艺 => 低温快
先进工艺有温度反型 => 低温慢。

muylor · 发表于 2013-4-18 12:27:27

回复 4# sjtusonic

抱歉确实说错了，40nm以前的工艺是温度高速度慢的。40nm及以下的是在-40度更慢，但我印象中温度曲线不是完全反转。
还有电压刚看了一下tsmc两种工艺：
40G：标准0.9v， wc：0.81v
40LP: 标准1.1v， wc: 0.99v
所以楼主应该用的是40LP的工艺。

XIDIANCAD2 · 发表于 2013-5-16 22:16:32

回复 2# sjtusonic

版主，40nm的PT分析时，set_noise_margin一般设置为电源的多少百分比呀？要分析noise.

papertiger · 发表于 2013-5-17 09:37:42

回复 6# XIDIANCAD2

应该有noise 库，不能用margin 了吧。

sjtusonic · 发表于 2013-5-17 10:20:54

回复 sjtusonic

版主，40nm的PT分析时，set_noise_margin一般设置为电源的多少百分比呀？要分析n ...
XIDIANCAD2 发表于 2013-5-16 22:16

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同步信号40%，时钟和异步信号20%

sjtusonic · 发表于 2013-5-17 10:21:45

回复 7# papertiger

对，有noise库更好

XIDIANCAD2 · 发表于 2013-5-18 13:06:00

回复 8# sjtusonic
好的，谢谢。
还有个问题，在PT userguide里说 28nm时，delay_calc_waveform_analysis_mode需要设置，
说是由于tail effort和miller effect影响delay calculate。28nm不设置这个参数的话延时计算就会不准确，但我man了下这个指令，又说这个指令在下个版本中会废弃掉。不知道什么意思。请大侠指教。但一旦设置这个参数后，transition就会变得很差。不知道版主在用28nm及更先进的工艺时，这个参数要设置不？谢啦

[求助] 40nm

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