关于DRC验证中的density的违例

stone101

min.density of MIM pattern is 3%

min.poly GDSpattern density is 14%

min.metal 5 GDSpattern density is 30%

min.metal 6 GDSpattern density is 30%


如上，关于density的违例有四个，后面两个是M5 M6的，我插入metal_filler的时候route_space定义的是0.3，怎么还出现了这个问题。

第一个和第二个是什么原因引起的，是有什么没插入吗。应该怎么解决？

截了个图

zhyeah

第一个是MIM电容的密度不够，如果设计中没有使用MIM电容可以忽略掉。
第二个是poly密度不够，需要加dummy poly。
三四个可能是工具没有加够，也可能是rule中规定的局部区域密度不够，自己查一下log。

stone101

回复 2# zhyeah


    谢谢你的回答


    请问dummy poly怎么添加啊，我这个是个数字IC的版图

    另外，后面两个金属层的密度问题，我看了log的，是整个版图的密度太小，之前我没有插入metal_filler的时候M1 M2都有这个问题，后来我在ICC中插入metal_filler，然后重新在calibre中做DRC检查，M1 M2的没有了，但是M5 M6还在，我插入metal_filler的时候设置的route_space是0.3.  这个该怎么解决？

kongliuer

用calibre  加吧~

zhyeah

回复  zhyeah


    谢谢你的回答


    请问dummy poly怎么添加啊，我这个是个数字IC的版图

    ...
stone101 发表于 2013-4-17 15:35

                               
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    poly的添加与metal的方法是一样的，选poly层就可以了。顶层metal添加后密度还是不够的话，可以把密度适当提高，或者dummy的size适当减小，满足calibre就可以了，不一定严格按着最小密度添加。所有的dummy也可以最后用calibre添加，当然是有rule的前提下。

stone101

回复 4# kongliuer


    那个我才开始学用calibre，现在只会基本的DRC验证，关于这个用calibre加dummy，能不能详细的跟我说下步骤啊？？或者有没有这方面的教程，麻烦推荐一个，谢谢啦

小句

在顶层上，用GATE填补空位，添加在IO或外围，在模拟部分及版图内部不会添加，添加在开关器件的两边，用于增加密度或做Dummy.

woshiadu

回复 5# zhyeah

学些了，我也遇到同样的DRC问题了，对于数字设计来说，那个MIM电容密度的违例要怎么修改啊？

刀演秦义

回复 6# stone101

您好 你学会怎么加dummy了吗 请教一下

icfbicfb

density可以忽略，