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[求助] 拉扎维书上的基准源流片后出现的问题HHNEC 0.13um

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发表于 2013-3-13 22:33:14 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 afliek 于 2013-3-13 22:36 编辑

1.bmp
工艺是HHNEC 0.13um的工艺,芯片中所用的基准电流源就是拉扎维图11.3上的基准电流源(启动电路未画出),只是在两个栅极用了几十ff的电容稳定电压,电源电压1.8V,用于产生的近1uA的电流Iout,电阻Rs上压降大概24mV,流片后发现测试输出的Iout电流大小易受VDD干扰,因为芯片内有高频数字电路,当VDD上有300mV且10M以上固定频率干扰时(这时VDD的直流等效电压未变化),输出电流Iout会随着干扰频率的升高而变大,在20M频率干扰时电流会变大了20%左右,求助有哪位大牛能解释一下这个现象
 楼主| 发表于 2013-3-13 22:39:23 | 显示全部楼层
别沉了,先顶一顶
发表于 2013-3-13 22:58:41 | 显示全部楼层
10M以上的干扰已经算是高频了。书上的理论推导其实简化了很多条件,并不是说这个电路的电源抑制能力在高频下也能很好。lz仿真时有没仿输出电流的PSRR?再者版图呢?后仿的情况呢?
 楼主| 发表于 2013-3-13 23:03:44 | 显示全部楼层
后仿做过的,PSRR肯定不会很好,但是再不好也不应该会影响Iout的直流输出大小呀,最多是Iout上会叠加高频的干扰信号
发表于 2013-3-14 08:26:29 | 显示全部楼层
如果在VDD上加高频信号源,后仿电路的瞬态特性,这样就和实际测试电路的环境类似了,不要仿真AC哦,看看输出电流是否随着高频信号源的频率而变化呢。。。
发表于 2013-3-14 11:28:52 | 显示全部楼层
这4个管子的L你用的多大?
发表于 2013-3-14 16:02:47 | 显示全部楼层
管子的工作状态都没问题吧? W/L 是多少?
不过RS上的压降个人感觉比较小。
发表于 2013-3-14 18:45:42 | 显示全部楼层
问题不难回答:
1. 这个结构PSR不好。
2. 高频信号使得电路的镜像节点DC电压飘移。
飘移的原因是环路增益太小.(如 Rs 不够大)
发表于 2013-3-14 18:49:52 | 显示全部楼层
再一点补充:
不要认为高频信号就是理想的对称的干扰!正因为这点,DC点就会飘移。。。
不要混淆了仿真时候加加正弦高频噪声在power上就作出实际噪声也如此的结论。。切忌!
 楼主| 发表于 2013-3-14 22:47:22 | 显示全部楼层
回复 5# fengchunyi_2011


加过高频信号源进行tran仿真的,DC点并不随频率变化的
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