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楼主: fuyibin

[原创] 关于不同工艺节点mos VTH的短沟道和反短沟道效应解释

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发表于 2015-11-5 23:05:14 | 显示全部楼层
好贴,谢谢楼主的分享,受益匪浅
发表于 2015-12-25 12:11:41 | 显示全部楼层
楼主好人,学习了
发表于 2015-12-25 13:55:43 | 显示全部楼层
Thank you for sharing.
发表于 2016-1-18 21:53:47 | 显示全部楼层
学习了,谢谢。。。。。
发表于 2016-2-29 17:26:09 | 显示全部楼层
楼主真心是牛啊
发表于 2016-4-12 18:00:57 | 显示全部楼层
一定要顶,谢谢
发表于 2016-9-26 20:35:34 | 显示全部楼层
良心帖,顶一个
发表于 2016-12-12 22:21:13 | 显示全部楼层
这个halo结构与LDD的区别
发表于 2017-1-17 11:54:09 | 显示全部楼层
写的非常好!

一般这种效应被称为反常短沟道效应(逆短沟效应)。

类似地,还有反常窄沟道效应。我们知道,在老工艺(LOCOS等)里,由于窄沟效应,当器件的W下降时,其阈值电压是上升的。但是在先进 工艺里,反而会出现阈值电压随W下降而下降的现象。
所以还是在接触新工艺时,自己先简单仿仿这些东西吧
发表于 2017-6-8 11:02:48 | 显示全部楼层
干货贴 黄金贴~~~
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