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查看: 3336|回复: 7

[求助] 华虹NEC 130nm 工艺求教

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发表于 2012-8-17 17:13:20 | 显示全部楼层 |阅读模式

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新接触华虹NEC 130um工艺,对里面的有些layer不清楚。如下:
tap、 li1、 licon1,不知道这些layer是起什么作用的?希望知道的人给予解答一下。不胜感激!
发表于 2012-8-17 21:50:01 | 显示全部楼层
算问对人了。 tap就是 ptap 和 Ntap。跟 diff是一样的。同一块版。
li1 licon1实际就是metal0和via0。华虹NEC 0.13um工艺是有metal0的。
 楼主| 发表于 2012-8-19 11:15:36 | 显示全部楼层
回复 2# hltong


    谢谢你的回复
不胜感激
发表于 2012-9-2 17:01:36 | 显示全部楼层
PDK里面不是有layer description的嘛?自己去查的啦
 楼主| 发表于 2012-9-5 12:56:27 | 显示全部楼层
回复 2# hltong


    在华虹NEC 130nm 工艺中的n+电阻中,在电阻的中间位置有一个diff(ct)层[这层在diff(dg)上面]不知是起什么作用的,请教大侠给予解答,不胜感谢!
 楼主| 发表于 2012-9-20 13:42:02 | 显示全部楼层
回复 2# hltong


算问对人了。 tap就是 ptap 和 Ntap。跟 diff是一样的。同一块版。
li1 licon1实际就是metal0和via0。华虹NEC 0.13um工艺是有metal0的。


hltong 你好!
下面问题想要请教:

在华虹NEC 0.13um工艺中的li1(你的解释它类似于metal0)与其它metal是否是不同的金属材料?它的电阻似乎很大。采用这一层的意义是什么?
发表于 2012-9-20 21:32:03 | 显示全部楼层
nice.
发表于 2012-10-23 20:58:10 | 显示全部楼层
这又是从哪里搞来的工艺啊
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