华虹NEC 130nm 工艺求教

lixiaojun707 · 发表于 2012-8-17 17:13:20

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新接触华虹NEC 130um工艺，对里面的有些layer不清楚。如下：
tap、 li1、 licon1，不知道这些layer是起什么作用的？希望知道的人给予解答一下。不胜感激！

hltong · 发表于 2012-8-17 21:50:01

算问对人了。 tap就是 ptap 和 Ntap。跟 diff是一样的。同一块版。
li1 licon1实际就是metal0和via0。华虹NEC 0.13um工艺是有metal0的。

lixiaojun707 · 发表于 2012-8-19 11:15:36

回复 2# hltong

谢谢你的回复
不胜感激

sicool · 发表于 2012-9-2 17:01:36

PDK里面不是有layer description的嘛？自己去查的啦

lixiaojun707 · 发表于 2012-9-5 12:56:27

回复 2# hltong

在华虹NEC 130nm 工艺中的n+电阻中，在电阻的中间位置有一个diff(ct)层[这层在diff（dg）上面]不知是起什么作用的，请教大侠给予解答，不胜感谢!

lixiaojun707 · 发表于 2012-9-20 13:42:02

回复 2# hltong

算问对人了。 tap就是 ptap 和 Ntap。跟 diff是一样的。同一块版。
li1 licon1实际就是metal0和via0。华虹NEC 0.13um工艺是有metal0的。

hltong 你好！
下面问题想要请教：

在华虹NEC 0.13um工艺中的li1（你的解释它类似于metal0）与其它metal是否是不同的金属材料？它的电阻似乎很大。采用这一层的意义是什么？

dyz123 · 发表于 2012-9-20 21:32:03

nice.

hhsis · 发表于 2012-10-23 20:58:10

这又是从哪里搞来的工艺啊

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