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楼主: le_levi

[求助] 什么叫做阱偏效应,如何解释?

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发表于 2018-8-13 17:56:38 | 显示全部楼层
 谢谢分享资料
发表于 2018-10-16 14:56:43 | 显示全部楼层
useful thanks
发表于 2018-11-9 20:27:12 | 显示全部楼层
感谢分享!学习一个
发表于 2018-12-17 13:56:51 | 显示全部楼层
阱偏效应在小工艺的情况下如何避免?是否必保持主要器件边缘与nwell的距离要3um以上?
发表于 2019-3-6 15:12:50 | 显示全部楼层
回复 33# yiweikun


    多谢分享,好好研究一下
发表于 2019-4-24 10:02:50 | 显示全部楼层
多谢多谢!
发表于 2019-5-24 18:27:23 | 显示全部楼层
谢谢分享
发表于 2019-9-4 13:21:37 | 显示全部楼层


yiweikun 发表于 2018-4-2 15:03
借用别处下载的资料可以解释你的问题


谢谢!资料很强大
发表于 2019-9-4 13:23:04 | 显示全部楼层


ellaisbest 发表于 2018-1-16 14:16
蛋糕薄了(工艺先进了),斜着切,(注入),容易边界引起不一致性。从而导致各种效应。切在阱上是 wpe, 切 ...


你这解释最贴切
发表于 2019-9-5 10:44:16 | 显示全部楼层


hijacker 发表于 2019-9-4 13:23
你这解释最贴切


LOD不是这个意思吧,LOD应该是浅沟槽隔离时在P N中间注入的隔离氧化物产生的应力影响到mos管的沟道,然后影响阈值电压什么的。不过版图上和WPE处理的都差不多,匹配后多打dummy就ok了
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