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[求助] 请教一下0.13μmCMOS工艺模型中的一些参数

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发表于 2012-5-8 13:10:13 | 显示全部楼层 |阅读模式

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μ(NMOS、PMOS管沟道表面迁移率)VT(NMOS、PMOS管的阈值电压)
tox(NMOS、PMOS管的栅氧化层厚度)
麻烦各位啦,小弟在此拜谢
发表于 2012-5-8 13:35:31 | 显示全部楼层
μ只和掺杂浓度和材料有关吧
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