关于dummy的问题，保持多晶硅蚀刻速率一致是什么意思？

寻觅冷清 · 发表于 2013-1-9 19:16:44

明白的更多了！

xyyyhtld0 · 发表于 2013-2-4 09:52:35

学习了！

dreamflying61 · 发表于 2013-5-13 13:23:50

受教了

hanfeng009 · 发表于 2013-5-15 15:00:28

学习了

zhuyujun · 发表于 2013-5-15 15:30:25

主要还是刻蚀间距导致刻蚀速率不同，所以需要dummy来保证最外面的刻蚀速率与其它保持一致。

arven11 · 发表于 2013-5-15 19:56:53

LEARN IT A LOT

tantpis78 · 发表于 2013-7-30 13:53:18

受益匪浅

heeda · 发表于 2013-7-31 19:50:56

keshi环境一样

ralphtw · 发表于 2014-10-20 11:27:14

for matching !

我要改名字啦啦 · 发表于 2018-1-4 10:39:33

我是版图新手，想问一下是不是保证开口一致就可以了？dummy包围的MOS管L大小不一样是否也起到作用？

[求助] 关于dummy的问题，保持多晶硅蚀刻速率一致是什么意思？