上华0.5工艺中数字地模拟地的处理（ADC在lvs中出现的问题）

cei527 · 发表于 2012-4-16 10:22:38

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正在做一个SAR型ADC，用的是上华0.5工艺，在版图中用了一圈数字地，一圈模拟地，在LVS时出现Check softchk psub CONTACT的warning,报错是显示模拟部分的地接到了数字地上，而当我试着把模拟部分的地真接到数字上时，显示其接到了模拟地了。总的说来，就说只要电路中的数字部分和模拟部分的地连到一起了就不出现warning,一旦分开就有问题。我查了下，都说是衬底其实都还接在一起，说是加psub层，不知道对不对，上华工艺应该怎么加。多谢大神指点。

half_honey · 发表于 2012-4-16 10:54:02

对是加PSUB2层

把模拟或者数字的衬底以及对应的N管用PSUB2层框起来

cei527 · 发表于 2012-4-16 16:21:58

回复 2# half_honey

太感谢您的回复啦，问下您，上华0.5工艺中哪个层与它对应啊？

half_honey · 发表于 2012-4-16 16:33:09

回复 3# cei527

就是PSUB2

motofatfat · 发表于 2012-4-16 16:54:13

U晶圓代工係 spe..gnd

severdesigner · 发表于 2012-4-16 22:52:58

请问上华0.5是双SUB工艺吗？

cxh · 发表于 2012-4-19 23:00:14

两个衬底其实还是连到一起的，你可以将gds和cdl中的两个地先替换成一个地后再run lvs，确保其他电路没有问题后再分开。

half_honey · 发表于 2012-4-20 09:01:10

回复 7# cxh

想人为的确保没问题是个很理想的事情
就遇到过有人这么做最后出问题的

PSUB2无非就是用来骗过LVS的对最后流片也没影响

推荐使用~

smart2010 · 发表于 2012-4-23 08:12:34

psub2只是一个标志层，用来区分两个地的！楼上说的很对！

seagul924 · 发表于 2018-11-7 12:09:42

回复 1# cei527

您好，这个工艺加完PSUB2后，怎么改calibre rule呢

[求助] 上华0.5工艺中数字地模拟地的处理（ADC在lvs中出现的问题）

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