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[求助] 上华0.5工艺中数字地模拟地的处理(ADC在lvs中出现的问题)

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发表于 2012-4-16 10:22:38 | 显示全部楼层 |阅读模式

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正在做一个SAR型ADC,用的是上华0.5工艺,在版图中用了一圈数字地,一圈模拟地,在LVS时出现Check softchk psub CONTACT的warning,报错是显示模拟部分的地接到了数字地上,而当我试着把模拟部分的地真接到数字上时,显示其接到了模拟地了。总的说来,就说只要电路中的数字部分和模拟部分的地连到一起了就不出现warning,一旦分开就有问题。我查了下,都说是衬底其实都还接在一起,说是加psub层,不知道对不对,上华工艺应该怎么加。多谢大神指点。
发表于 2012-4-16 10:54:02 | 显示全部楼层
对 是加PSUB2层

把模拟或者数字的衬底以及对应的N管用PSUB2层框起来
 楼主| 发表于 2012-4-16 16:21:58 | 显示全部楼层
回复 2# half_honey


    太感谢您的回复啦,问下您,上华0.5工艺中哪个层与它对应啊?
发表于 2012-4-16 16:33:09 | 显示全部楼层
回复 3# cei527


   就是PSUB2
发表于 2012-4-16 16:54:13 | 显示全部楼层
U晶圓代工 係 spe..gnd
发表于 2012-4-16 22:52:58 | 显示全部楼层
请问上华0.5是双SUB工艺吗?
发表于 2012-4-19 23:00:14 | 显示全部楼层
两个衬底其实还是连到一起的,你可以将gds和cdl中的两个地先替换成一个地后再run   lvs,确保其他电路没有问题后再分开。
发表于 2012-4-20 09:01:10 | 显示全部楼层
回复 7# cxh


   想人为的确保没问题是个很理想的事情
   就遇到过有人这么做最后出问题的

   PSUB2无非就是用来骗过LVS的 对最后流片也没影响

   推荐使用~
发表于 2012-4-23 08:12:34 | 显示全部楼层
psub2只是一个标志层,用来区分两个地的!楼上说的很对!
发表于 2018-11-7 12:09:42 | 显示全部楼层
回复 1# cei527


   您好,这个工艺加完PSUB2后,怎么改calibre rule呢
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