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楼主: 陈涛

[原创] 聊一聊航天用芯片

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发表于 2014-2-12 15:22:58 | 显示全部楼层
我想问下,航天芯片设计好后在哪里流片呢?都用什么工艺呢?
发表于 2014-2-14 21:49:15 | 显示全部楼层
和老美的差距也不大的,也就一个孙悟空的金斗而已
发表于 2014-2-22 15:09:27 | 显示全部楼层
本帖最后由 zp_xd 于 2014-2-22 15:15 编辑

航天用芯片大多数情况下并不需要用到特殊工艺,考虑一般的情况,首先必须满足温度范围,比如-55~+125
然后最主要的特殊要求就是抗辐照性能,这是因为太空中充斥着各类宇宙射线。一般来说,辐照主要有几类效应:
SEU : 单粒子翻转,本质就是被粒子击中后可能导致逻辑翻转
SEL : 单粒子闩锁,就是latch-up
TDI : 总剂量效应,主要是引发mos fet的D、S漏电
针对以上效应,目前有比较成熟的设计手段来应对
对于SEU,主要是设计上加固,包括各类纠错(如ECC、TMR),标准单元采用DICE或保护门结构。越大的工艺节点抗SEU效果越好
对于SEL,主要是版图上保护环、间距等的设计
对于TDI,通常的做法是栅极的画法,采用环形栅或者H型栅,工艺节点越小,总剂量效应也会减弱。

另外在封装上,有时候可以采用金旦做的外壳来削弱射线。
以上手段都是公开资料可以查到,不要把航天级芯片看得太神秘了哦
发表于 2014-2-25 23:14:48 | 显示全部楼层
本帖最后由 leo_adair 于 2014-2-25 23:19 编辑

楼上说的靠谱。
宇航类IC需要特别手段加固。加固分为工艺加固和设计加固两类。
工艺加固需要特别的工艺线,烧钱大大的。
设计加固采用商用工艺线加固,现在设计加固是重点。
加固主要是为了防止TID/SEU/SEL/SEFT/SEGR/SEB等一坨空间高能粒子带来的影响。
数字电路和模拟电路考虑的粒子效应侧重点不同。
也有从封装角度去做高能粒子防护的~~

楼上的TDI应该是TID的笔误。
发表于 2014-3-18 10:41:02 | 显示全部楼层
顶一下
发表于 2014-3-20 10:35:45 | 显示全部楼层
学习了!膜拜一个!
发表于 2014-4-29 14:27:34 | 显示全部楼层
内容涨姿势啊!
发表于 2014-10-29 20:30:17 | 显示全部楼层
学习了
发表于 2014-11-13 23:28:11 | 显示全部楼层
也要看在轨情况,是低轨还是中轨或者高轨,如低轨主要考虑单粒子效应,即楼上所说的SEL、SEU、SET等;

抗辐照芯片在系统架构设计、算法设计阶段就要进行加固设计,如EDAC;

后端时一般都使用加固的工艺库,也会使用TMR,但是TMR的开销很大,某X学的某库号称不适用TMR也基本能达到使用TMR的效果;

不多说!
发表于 2015-6-17 15:09:25 | 显示全部楼层
我知道我们学校有个老教授就是做这个的,用的是薄膜材料
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