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A(此处省略2字母)公司为S(此处省略3字母)公司做的0.18um stdcell library, 其中LEF是5.2版本。
LEF的开头是 design rule部分, 后面的是cell physical library。
一切万恶源自 LEF 中关于 VIA 的定义, 确切的说是 via overhang的定义!
本来, Design rule关于metal部分有最小面积要求:Mn.6 > 0.20um^2。 因此, 凡是有stack via出现的地方, 必然有via overhang, 可是overhang在LEF中定义的extend距离不够(overhang坐在metal area不够), 因此导致凡是有overhang的地方,overhang所在metal area 都没有超过 0.20um^2的。 而且, overhang部分metal呈现“十”字状, S公司和A公司要参与联合国红十字组织吗?
好容易做到timing收敛, 放到calibre跑DRC, NND, 都是Mn.6的错误, 开打layout一看, 都是overhang部分的metal问题。
请问大大: 有没有遇到过类似情况的? 为何A公司这样做? 还是菜鸟我脑残了? |
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