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楼主: cc1405

[求助] 关于MOS的栅长和阈值电压的关系

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发表于 2012-6-9 18:10:51 | 显示全部楼层
回复 20# sudezhao

假设channel length 从 0 到 10 um,  VT变化规律一般是从0~1um,随着L增大,VT增大,这主要是short channel effect在起作用;
随着L继续增大,VT逐渐减小,然后基本不变,这主要是reverse-short channel effect在起作用。
发表于 2013-1-23 10:28:43 | 显示全部楼层
xuexixuexi
发表于 2013-1-23 11:03:44 | 显示全部楼层
学习了……
发表于 2014-4-9 10:44:07 | 显示全部楼层
正好解决了我的困惑
发表于 2014-4-10 16:03:06 | 显示全部楼层
学习了
发表于 2014-9-4 11:09:02 | 显示全部楼层
回复 21# iamshan


   good
发表于 2014-9-6 13:15:55 | 显示全部楼层
回复 18# byd306

halo implantation: large angle implantation, to avoid S/D punch-through
发表于 2015-12-8 23:29:13 | 显示全部楼层
这个问题我也刚碰到,纠结很久,一直没有解决。老师叫我看BSIM3v3参数,不过也没弄懂。如果有好的分析方法,求分享下
发表于 2016-5-3 23:42:53 | 显示全部楼层
学习了
发表于 2018-3-20 00:52:30 | 显示全部楼层
学习来了。
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