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发表于 2010-7-4 18:59:52
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就所谓CMOS工艺国内和国际差距已经不大了,这个问题谈一下自己的看法。
个人认为这个差距至少是10年!举个例子吧,国内的fab做0。5um工艺,MOSFET的poly通常用SiN材料,而国外优秀工艺用SiTi,为什么国外工艺用这种材料?大家都知道,DC OFFSET里面有一个参数,Avth域值电压失配系数,国外工艺比如JAZZ,Xfab可以控制在2.5左右,而上华,SMIC,TSMC压根没管这个参数的提取,我们设计时候为了减小mismatch只能把匹配器件做大面积,这样寄生电容大了,速度就受到限制,显然无法满足高性能ADC/DAC要求。其他很多细节也是如此,可见同一种工艺,不同的fab在高性能应用场合,差别是很大的! |
学习了,平时看论坛的讨论,还以为这个阈值电压的失配很多工艺厂会给,原来不是。
至少 charter 0.35um就完全没给,MOS失配的参数也一个没给。。。 |
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