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至少在CMOS上面工艺的差距已经可以忽略了。至于设计能力,国内不缺聪明能干勤奋的人,缺的是在国外一流公司真正有经验的资深设计师的点拨。好的设计师,并不在于设计电路的多少,而在于能否真正理解明白电路的精髓。 liqiyue 发表于 2010-5-30 22:13 登录/注册后可看大图
所以就需要有实力的海归来引导啊。 中国的海归潮虽然有些年头了, 海归归国就象我们钓鱼一样,开始闹窝的大都是小猫鱼, 等你快失去耐心了,大鱼就又过来。 这个好机会,希望有识之士抓住! greatwater 发表于 2010-6-3 15:24 登录/注册后可看大图
就所谓CMOS工艺国内和国际差距已经不大了,这个问题谈一下自己的看法。 个人认为这个差距至少是10年!举个例子吧,国内的fab做0。5um工艺,MOSFET的poly通常用SiN材料,而国外优秀工艺用SiTi,为什么国外工艺用这种材料?大家都知道,DC OFFSET里面有一个参数,Avth域值电压失配系数,国外工艺比如JAZZ,Xfab可以控制在2.5左右,而上华,SMIC,TSMC压根没管这个参数的提取,我们设计时候为了减小mismatch只能把匹配器件做大面积,这样寄生电容大了,速度就受到限制,显然无法满足高性能ADC/DAC要求。其他很多细节也是如此,可见同一种工艺,不同的fab在高性能应用场合,差别是很大的!
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