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tsmc0.25rf 工艺库导入后不能instance到设计文件

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发表于 2009-11-19 01:58:43 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 EEyliu11 于 2009-11-19 02:06 编辑

我导入了一个tsmc0.25RF工艺库,只是修改了cds.lib路径和 merge了display.drf文件,已经能看到原件图了,但是当我打开一个空白的layout,想instance 里面的indunctor时候,他们都不能正常显示在版图上,有warning出现在cds.log里面。
*WARNING* Pcell evaluation for tsmc25rf/ind/layout has the following error(s):
*WARNING* ("eval" 0 t nil ("*Error* eval: undefined function" tsmc25rf_PdkGetIndSide))
*WARNING* Error kept in "errorDesc" property of the label "pcellEvalFailed" on layer/purpose "marker/error" in the submaster.

instance nmos 的warning :
*WARNING* Pcell evaluation for tsmc25rf/nmos2v/layout has the following error(s):
*WARNING* ("eval" 0 t nil ("*Error* eval: undefined function" tsmc25rf_PDKrodmosBuild))
*WARNING* Error kept in "errorDesc" property of the label "pcellEvalFailed" on layer/purpose "marker/error" in the submaster.

请问有人知道应该怎么做才能使用这个工艺库么?
发表于 2010-4-22 21:44:38 | 显示全部楼层
上华0.5um mixed工艺
发表于 2010-11-23 03:30:29 | 显示全部楼层
我也正想用这个,不知道会不会遇到同样的问题?
发表于 2011-4-12 11:00:37 | 显示全部楼层
我也想知道这个答案
发表于 2013-3-30 15:00:04 | 显示全部楼层
回复 1# EEyliu11

楼主工艺库能不能上传一下啊,急需用TSMC25rf的工艺库啊!!!
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