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楼主: wwjghcy

关于NMOS和PMOS的噪声问题

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发表于 2011-4-6 16:58:36 | 显示全部楼层




    这属于总结
发表于 2012-4-27 13:58:49 | 显示全部楼层
。。。。受教了
发表于 2012-4-27 14:40:42 | 显示全部楼层
拉杂为的书上说,理论是这样的,但是在现实中却始终没有看到呢?
发表于 2013-8-13 10:51:57 | 显示全部楼层
o  那对于高频噪声性能,二者是一样的吗
发表于 2014-1-12 18:18:47 | 显示全部楼层


就一句话,导电的是电子还是电流就决定了他们的1/f噪声的区别。你看1/f 噪声的原因是电子被.....俘获...
P ...
zhongbo1127 发表于 2010-5-27 22:16




    这个太扯了。。
发表于 2014-6-15 15:42:07 | 显示全部楼层
这是一个很好的话题,通常早期工艺,pmos属于是埋层器件,即poly采用了N type的工艺。
这样mobility fluctuations成了主要的噪声源。 然而nmos是表面沟道,存在这表面现象的trapping and detrapping of the number of charge carriers。也可以简单理解为导流层远离表面的器件噪声小,不过现在使用了新工艺,能做到nmos的噪声和pmos的噪声一样低的水平,这大大提高了逻辑线路的设计空间。
发表于 2014-6-15 15:42:56 | 显示全部楼层
楼上那个blackbird 发了写乱七八糟的paper..
发表于 2014-6-16 09:59:40 | 显示全部楼层


这是一个很好的话题,通常早期工艺,pmos属于是埋层器件,即poly采用了N type的工艺。
这样mobility fluct ...
hei123 发表于 2014-6-15 15:42




   您说得“早期工艺”大概是什么尺寸的工艺?
发表于 2014-8-6 16:03:03 | 显示全部楼层
谢谢大神们,终于明白了
发表于 2014-10-17 10:52:27 | 显示全部楼层
回复 10# blackbird


   有病!!!!!!!!!
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