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EETOP诚邀模拟IC相关培训讲师 创芯人才网--重磅上线啦!
查看: 6507|回复: 12

请教关于hvmos的问题

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发表于 2009-10-21 12:37:12 | 显示全部楼层 |阅读模式

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hvmos有asymmetric和symmetric,工艺文件里面说asymmetric的漏极可以接高电位,symmetric的漏源都可以接高电位;这里的意思是不是说如果做得是buck型的电源就要用到asymmetric,如果是boost就要用到symmetric?
另外还有isoltaed和non-isolated的区别;这里有什么差异?
发表于 2009-10-21 21:03:04 | 显示全部楼层
同问 知道的大哥大姐帮帮忙吧
发表于 2009-10-22 10:59:09 | 显示全部楼层
这个看具体的环境吧,不是说buck或boost就非得用哪一种cell
isoltaed的管子和对称的drain,source耐压差不多,但好像isolated的vth要小一些。
对Vgs的耐压要看是否是厚栅即可。
发表于 2009-10-25 13:07:41 | 显示全部楼层
需要看看具体的结构,才能下结论吧。不同的工艺,结构不一样的
发表于 2009-10-26 12:32:22 | 显示全部楼层
好!
发表于 2009-10-26 14:09:01 | 显示全部楼层
学习了
发表于 2009-10-30 17:40:22 | 显示全部楼层
请问这是哪家的工艺!?
发表于 2013-4-10 11:22:52 | 显示全部楼层
一看就是新加坡人的
发表于 2013-4-10 16:17:40 | 显示全部楼层
回复 1# rengd02

asy 非对称,源端到衬底不能耐高压,所以衬底只能接源。sy对称,源端到衬底可以耐高压,所以衬底可以接源也可以不接源。


iso隔离,一般是对NMOS,就是衬底可以接任意电位。
no-iso,一般也是NMOS,衬底必须接GND
发表于 2014-2-13 10:56:27 | 显示全部楼层
刚开始了解HV工艺,正在学习
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