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《超大规模集成电路技术基础》

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发表于 2008-6-6 23:50:30 | 显示全部楼层 |阅读模式

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高等学校教材 《超大规模集成电路技术基础》 李兴 主编 电子工业出版社

一 硅的晶体结构
二 光刻
三 扩散
四 氧化及热处理
五 薄膜工艺基础与物理气相沉积
六 化学气相沉积
七 刻蚀
八 平坦化及多重内连线工艺
九 超大规模集成电路工艺汇总

[ 本帖最后由 suk.qi 于 2008-6-6 23:55 编辑 ]

超大规模集成电路技术基础(李兴).part1.rar

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超大规模集成电路技术基础(李兴).part2.rar

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超大规模集成电路技术基础(李兴).part3.rar

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发表于 2008-9-10 14:18:10 | 显示全部楼层
提示: 作者被禁止或删除 内容自动屏蔽
发表于 2011-3-14 22:28:37 | 显示全部楼层
非常经典的一本半导体书籍,值得一看
发表于 2011-3-30 16:54:05 | 显示全部楼层
very good!!!!!!!!!!!
发表于 2012-3-6 12:10:35 | 显示全部楼层
顶起~!!!
发表于 2012-6-3 17:01:49 | 显示全部楼层
非常好的一本书!
发表于 2012-7-31 15:31:47 | 显示全部楼层
讲工艺的,下载收藏。
发表于 2014-6-17 11:05:53 | 显示全部楼层
不错,下载收藏
发表于 2022-10-21 10:29:03 | 显示全部楼层
学习
发表于 2022-10-21 10:48:19 | 显示全部楼层
不错不错,有料,很专业和深度,学习下
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