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[求助] 工作在不同电流密度下的三极管ΔVbe的偏差

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发表于 2012-2-9 15:47:47 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 kuxuanxinzai 于 2012-2-14 10:11 编辑

想请教一下各位大侠关于ΔVbe的问题。

在不同电流密度偏置下的三级管的ΔVbe应当是一个很准的PTAT电压值,不随工艺波动而波动(如果不考虑电流比例的适配,以及三级管发射级面积的适配)。但是我现在仿真的一个CMOS工艺中纵向PNP时,偏置电流用理想电流源,发现ΔVbe在SS与FF情况下相差1.2mV左右。这个值对于ΔVbe来说应当算是很大的了!

敢问各位仁兄,知道造成这个偏差的可能原因是什么不?或者说,具体是三级管中的那个参数引起的?

我之前开始怀疑是由于寄生纵向PNP的电流增益引起的,但是后来分析并不是,因为在这里只有电流增益的失配才会造成ΔVbe的误差。虽然CMOS工艺中PNP的电流增益很小,但是失配引起的误差并不是很多(定量计算在27摄氏度下,大概贡献10uV的量级)。

麻烦各位大侠指点一下.......不甚感激

.............................................分割线..........................................................................................................................

现在ΔVbe随工艺变化的原因已经确定,是nf参数的变化引起的。

在选择另外一个较好的bicmos工艺后,经过仿真,ΔVbe几乎随工艺角不变化。但是ΔVbe对温度的斜率确有明显的变化(即不是严格的PTAT)。在我的电路中,-50℃到100℃,ΔVbe的斜率会变化0.4%,而且其斜率是随温度增加而增加的。这个和理论计算值有一定偏差。0.4%的误差相对于ΔVbe来说,还是蛮大的。
敢问各位大侠有相关的资料分析这个东东的没有?

麻烦各位大侠指引一下...
发表于 2025-7-9 19:06:35 | 显示全部楼层
这个确实是理想因子eta(n_factor)引起的,不同工艺的差别比较大,如果楼主是本地测温的话,这个在dVBE/VREF的分子分母都有,是可以消掉的
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发表于 2025-4-30 18:05:24 | 显示全部楼层
delta VBE
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发表于 2023-6-14 10:59:21 | 显示全部楼层


   
kuxuanxinzai 发表于 2012-2-10 18:01
回复 2# alfredchn


楼主这是咋算的呀,就是我想知道cadence代入model里的参数,cadence具体的计算公式,这个从哪里看呢

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发表于 2018-10-5 22:24:27 | 显示全部楼层
Very Good , Thank you !
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发表于 2017-10-30 15:54:40 | 显示全部楼层
讨论不错
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发表于 2017-10-30 09:15:28 | 显示全部楼层
mark一下,以后学习
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发表于 2017-10-29 22:39:09 | 显示全部楼层
回复 32# kuxuanxinzai


   还有就是,我仅仅把ICC变化2uA,仍然可以看出delta Vbe有2~3mv的变化,所以感觉不是beta的原因啊,迷茫......
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发表于 2017-10-29 22:36:32 | 显示全部楼层
回复 21# kuxuanxinzai


   楼主,我最近在也看Tsensor方面的电路,仿真发现delta_Vbe随电流的 变化还很明显,比如给两个相同的PNP分别灌入ICC和8*ICC的电流,理论上delta Vbe=Vt*ln(8),和ICC的大小无关,但是发现ICC=10u,和ICC=100u时,delta Vbe在相同温度下相差很大,不是很明白看了你们的讨论,是不是由于在不同的ICC下,两个三极管的beta值已经处于不同区间了,导致beta不同,从而导致了两个三极管的Ic不是8倍的关系了??但是我在两种情况下分别看了下两个PNP的Ic电流,确实还是8倍的关系,又迷茫了...
请楼主帮忙解释一下,多谢多谢
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发表于 2016-1-20 17:45:58 | 显示全部楼层
基本设计要素都说到点上了,但是温度传感器的精度真的很难达到0.1度, 商用0.5度都算不错了。
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