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[求助] 关于开关电容中的沟道电荷注入效应,有一个问题请教各位!

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发表于 2012-12-26 10:38:25 | 显示全部楼层 |阅读模式

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未命名1.bmp 在如图所示的采样电路中,书上都会提到沟道注入效应,即MOS管由闭合变为关断时,沟道的电荷会注入到Ch和Vin. 我的问题是:与沟道电荷相对应的应该是MOS管栅极上的反向电荷,所以当MOS管关断时,沟道中的电荷应该经由硅体、外电路(如连接硅体和栅的电源)与栅上的电荷中和,而不是注入到Ch和Vin。这就是我的问题,请教各位了!
未命名.bmp
发表于 2012-12-26 13:45:48 | 显示全部楼层
中间是绝缘的。还有CGS等存储的电荷。
 楼主| 发表于 2012-12-26 16:57:53 | 显示全部楼层
MOS管闭合时,栅为高电平,中间有绝缘层。但是当MOS管关断时,绝缘层会消失,形成栅--沟道电容的放电回路。
发表于 2017-2-21 16:15:12 | 显示全部楼层
学习了,谢谢!
发表于 2017-2-21 19:37:02 | 显示全部楼层
先学学半导体物理基础
发表于 2017-2-21 22:52:37 | 显示全部楼层
当MOS管关断时,沟道中的电荷应该经由硅体、外电路(如连接硅体和栅的电源)与栅上的电荷中和,而不是注入到Ch和Vina
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