半导体制作工艺过程中为何要利用光刻模拟软件

shuggad · 发表于 2006-4-8 22:04:00

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半导体制作工艺过程中，光刻工艺是一个非常重要的工序。利用光刻模拟软件具有以下优势：
1）加快工艺发展速度
最大限度提高半导体制造商对现有曝光机的利用率
实现对光刻工艺战略的快速定义并认证，从而缩短进入市场的时间
2）缩短量产化进程
对光刻结果提供可靠的预测
能够对光刻过程，结构设计及掩模进行校正
3）提高生产率和增加收益
减少暇疵提高效益
缩小IC设计与成品之间的差距
有意了解详情请按以下方式联络：
联络方式：EMD，电话：021-61021225， Email：emdservice@chinaECNet.com