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查看: 2908|回复: 5

Ion implant and its application in process

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dychen2582
发表于 2009-8-28 09:47:17 | 显示全部楼层 |阅读模式

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it's very useful for TCAD simulation:
1.Basic introduction for implantation process
2.Well/LDD/SD implant range
3.Dopant profile introduction
process

ion implantation.pdf

4.3 MB, 下载次数: 80 , 下载积分: 资产 -3 信元, 下载支出 3 信元

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zlh95222
发表于 2009-9-6 21:46:08 | 显示全部楼层
xialai kankan !
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Lincoln.Sun
发表于 2010-7-19 14:14:49 | 显示全部楼层
xiexiefenxiang
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Lincoln.Sun
发表于 2010-7-19 14:16:45 | 显示全部楼层
xiexiefenxiang
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bambucha2007
发表于 2011-5-27 01:06:09 | 显示全部楼层
eetop great.  
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ronnie147
发表于 2024-5-14 22:50:52 | 显示全部楼层
thans！！！
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