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[求助] 请问一下40纳米工艺下p/n mos与18纳米下为什么在版图中的样子差别怎么那么大

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发表于 2022-9-12 10:36:58 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本人刚入行一个小白,还是一个学生,以前只画过18纳米的 微信图片_20220912103001.png 这是一个40纳米下的PMOS  为什么两边会多两根GT? 源漏打孔的金属线为什么还超出了AA区?怎样去理解这个MOS管呢?有点白痴的问题,望大家指导一下,万分感谢!!!!!!!!!
 楼主| 发表于 2022-9-14 10:08:38 | 显示全部楼层


   
hustjzr 发表于 2022-9-12 18:58
SIMC40左右的poly是dummy,你可以简单理解为,如果没有这两个dummy,中间poly的光刻可能误差会变大。如果具 ...


谢谢
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 楼主| 发表于 2022-9-14 10:11:25 | 显示全部楼层


   
小李真帅啊 发表于 2022-9-13 15:02
关于金属为什么会超出AA区域,这是由金属1最小线宽,以及金属一包CT孔的向外扩展的最小宽度决定,比如smic ...


谢谢
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