关于ADS中版图和原理图之间的关系

hjqmgx · 发表于 2015-5-30 09:05:33

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在ADS中进行单片集成LNA设计，原理图生成版图后，在原理图中修改介质的厚度可以吗，比如说0.15μmGaAs工艺，它的MET2层厚度有2μm和4μm的两种，我在原理图生成版图的时候用了2μm的，我在后面的版图分析中发现需要4μm的，于是我返回原理图中直接把2μm改为4μm可以吗？它们是同步更新的吗？
还是需要在原理图中对介质进行改进后重新生成版图？主要是重新生成版图的话元器件位置和布线都要重新做，过程还要进行DRC和LVS很麻烦。麻烦各位知道的前辈告知，不甚感激！

hjqmgx · 发表于 2015-5-30 19:27:40

这个问题已经解决，在EM仿真设置中将substrate进行编辑即可，有的你编辑以后保存不了，你要另存一个版本！

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