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[求助] 65nm 管子的gate leakage对运放设计影响严重吗?

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发表于 2011-3-29 09:59:40 | 显示全部楼层 |阅读模式

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请教:65nm 管子的gate leakage对运放设计影响严重吗?65nm对模拟设计(非射频)有没有什么好处?

望用过的兄弟告知一二,谢谢!
发表于 2011-3-29 11:19:32 | 显示全部楼层
做运放用65nm,有点不靠谱。
运放的match,offset怎么保证啊!!
发表于 2011-3-29 13:03:35 | 显示全部楼层
高速的,还不错。leakage 没啥的
发表于 2011-3-29 16:32:56 | 显示全部楼层
回复 2# muyu0786


    开玩笑为啥65nm就不能保证。
发表于 2011-3-29 16:36:16 | 显示全部楼层
回复 1# goodsilicon


    看你over drive了和size了,40nm就遇到过,65要好一点
发表于 2011-3-30 09:02:43 | 显示全部楼层
回复 4# hezudao


   把面积做很大是可以保证,但是既然这样何必用65nm呢,用l大的不就好了,也不容易有leakage。
 楼主| 发表于 2011-3-30 09:24:20 | 显示全部楼层
谢谢各位,SOC,工艺由不得我。
发表于 2011-3-31 03:58:38 | 显示全部楼层
回复 6# muyu0786


    显然有好处,同等面积的管子,mismatch还是变小的。也就是同样的offset可以用更小的面积实现。
发表于 2011-3-31 08:43:41 | 显示全部楼层
回复 8# hezudao


   你是说用65nm工艺的好处,我是说用65nm但是L值不要用最小尺寸,就应该没有楼主说的leakage问题,也能合理避免mismatch
 楼主| 发表于 2011-3-31 09:04:08 | 显示全部楼层




    我的意思是gate leakage,和最小尺寸关系不大。
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