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[求助] 【求助】tsmc18rf工艺库中rppolyhri_rf电阻的PP.E.6设计规则drc检测异常

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发表于 2025-7-11 00:20:46 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 afOIFHOIPQ 于 2025-7-11 00:44 编辑

求助,楼主在使用tsmc18rf工艺库里的射频rf元件设计一个压控振荡器LCVCO,在版图设计时跑了一下drc检查,发现。按照原理图生成的rppolyhri_rf电阻版图无法通过drc检查,并且相同的元件中,有一个不能通过检查,其他都可以。具体的报错信息是PP.E.6,要求是p注入层包围没有被rpo覆盖的多晶硅至少达到0.18um,我看版图中这个规则是符合的,但calibre的drc检查就是会有的报错,有的不报错,而且报错区域居然是在RPdummy覆盖的部分上。想问一下有没有人知道出了什么问题。
Screenshot from 2025-07-11 00-40-13q.png
原理图

                               
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生成的电阻版图

                               
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P注入区的测量,间距是刚好0.18
Screenshot from 2025-07-11 00-29-29.png
如图所示,红色圈里的四个电阻全相同,绿色圈里的四个全相同,但只有红绿色箭头指着的各一个有报错。
报错是在RPdummy层上,而不是没有rpo覆盖的左右两边

报错信息,PP.E.6 { @ Min enc of POLY resistor by PP < 0.18
  ENC PORES PP < 0.18 ABUT <90 REGION
  (RPO AND POLY) NOT IMP
}


 楼主| 发表于 2025-7-11 00:45:27 | 显示全部楼层
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 楼主| 发表于 2025-7-11 14:09:29 | 显示全部楼层

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 楼主| 发表于 2025-7-11 20:09:11 | 显示全部楼层
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发表于 2025-7-12 10:34:55 | 显示全部楼层
没用过这个工艺,是不是有BUG不清楚。不过想同的只报一个错,是因为你是Hierarchy模式跑。
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