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[资料] (清华大学)集成电路制造工艺原理

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发表于 2025-4-17 23:01:35 | 显示全部楼层 |阅读模式

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(清华大学)集成电路制造工艺原理

§0引 言.pdf

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§1外延.pdf

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§2氧化.pdf

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§3扩散.pdf

642.18 KB, 下载次数: 6 , 下载积分: 资产 -2 信元, 下载支出 2 信元

§4离子注入.pdf

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§5CVD.pdf

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§6光刻.pdf

830.19 KB, 下载次数: 6 , 下载积分: 资产 -2 信元, 下载支出 2 信元

§7刻蚀.pdf

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§8金属化.pdf

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 楼主| 发表于 2025-4-17 23:20:01 | 显示全部楼层
真不错!哈哈
发表于 2025-4-18 22:23:02 | 显示全部楼层
谢谢
发表于 2025-4-27 10:39:03 | 显示全部楼层
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