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查看: 399|回复: 3

[求助] Finfet工艺,guardring有floating的poly这样做是为什么?

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发表于 4 天前 | 显示全部楼层 |阅读模式
100资产
做finfet五六年,一直默认这是guardring的做法,但是没有思考过为什么这样去做,有没有大佬解答一下

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FINFET整个都是立体结构,就是传统S/D有IMPLANT的地方,其实现在是外延长出来的,如果不按MOS管画法,生长都会出问题。你可以认为哪个POLY是用来规范生长的。
发表于 4 天前 | 显示全部楼层
FINFET整个都是立体结构,就是传统S/D有IMPLANT的地方,其实现在是外延长出来的,如果不按MOS管画法,生长都会出问题。你可以认为哪个POLY是用来规范生长的。


屏幕截图 2025-03-27 184200.png
发表于 4 天前 | 显示全部楼层
首先可以减少信号延迟和串扰,在工艺中可以确保刻蚀和沉积的均匀性,减少工艺波动,还可以可调节guardring区域的电场分布,减少电场集中效应,从而提升器件的击穿电压和长期可靠性。
 楼主| 发表于 3 天前 | 显示全部楼层


蒋赵威 发表于 2025-3-27 17:44
首先可以减少信号延迟和串扰,在工艺中可以确保刻蚀和沉积的均匀性,减少工艺波动,还可以可调节guardring ...


确实是这样,工艺越小,说的简单点就越像 core device pr的那种画法
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