tsmc 12nm finfet工艺在innovus报M0 overlap问题

Eloise_111

在未填充filler时，出现的是boundary cell在top和bottom两侧，以及与welltap挨着的standard cell，还有少部分standard cell挨着的，会报这种M0 overlap的问题。
在填充filler后，每个filler都会报M0 overlap的问题。
求助大神，是什么原因，怎么解决呢？

ywwuyifan

几T的cell？你有正确应用那些placement设定吗

Eloise_111

ywwuyifan 发表于 2025-3-27 17:25
几T的cell？你有正确应用那些placement设定吗

你好，感谢回复。应该是9T的。
给的文档所在目录没有特别标注6T还是9T。lef文件使用的是16p90的，tlef是RDL_H576。它们的core SIZE都是0.09 BY 0.576。tlef设定的PITCH是0.048。
placement设定是指？ pdk里只有via设置的相关tcl，没有额外的了。