GDS number 和mask number

yangheSDUT

求助，这个PDK里面的电阻器件，GDSnunmber 能和design rule 中的mask对应起来，但是mask number 显示0，这是怎么搞的啊 ，是需要加载一个layermap吗？还是说Techfile出问题了，困惑，哪位大神给点指点。

遥山螟

MASK number 没关系，可能是TF中没有写，这个对画layout来说不重要

yangheSDUT

遥山螟 发表于 2024-12-9 20:45
MASK number 没关系，可能是TF中没有写，这个对画layout来说不重要

大哥  能给我说一下  gds number  和mask number的区别吗，这样不显示 mask number 会不会出现 to的时候少mask层的 情况，有风险吗？

yanpflove

yangheSDUT 发表于 2024-12-10 09:45
大哥  能给我说一下  gds number  和mask number的区别吗，这样不显示 mask number 会不会出现 to的时候 ...

• 版图上画画，需要好多个层次，这些层次就是GDS layer。
• mask制版的层次比版图画画的层次 少很多，对应制版的真实层次的，就是mask layer。
• Mask layer是根据GDS layer，通过mask generation table（mask运算公式，mask层次逻辑运算……），生成的。
• 有的GDS layer和Mask layer的名称是对应的，更多的是不对应的。
• GDS layer中，除了一些层次跟Mask layer是对应的之外，还有DRC/LVS识别层，slot辅助层，dummy 辅助层……
• 你这个HV GM1，HV GM2，应该是辅助层次，不直接对应mask，所以就没有mask number，就是0
  

yangheSDUT

yanpflove 发表于 2024-12-10 10:01

版图上画画，需要好多个层次，这些层次就是GDS layer。

mask制版的层次比版图画画的层次 少很多， ...

首先感谢大哥的耐心指导，我现在清楚多了。

还有一个疑问希望能得到您的指导，我描述一下，我们现在正在使用的PDK是 T家的，已经TO过。现在领导希望下个版本用一个高性能的sicr电阻，但是我们现在的PDK是不提供这个电阻的model，这个电阻是T家单独提供，所以又从T家下载了电阻的单独的PDK，安装好。目前是相同工艺的两个PDK。
目前的疑惑是第一，电阻的PDK提供了单独的DRC 和 LVS rule（目前正在申请，还没有给到），单独的DRC rule 是要直接copy 进去主的drc rule 里面吗？或者还需要一个 merge的过程呢？之前没做过这样的结合，无从下手。然后申请的LVSrule，我理解是T家会给一个包括sicr电阻的整合后的rule吧。
第二，如我上面提到的这个sicr电阻，新PDK里面给的layout看上去很奇怪，只有金属2是mask层次吧，其余好像都是识别层，或者逻辑运算层，这si和cr的电阻，poly呢？是估计不给看还是就是没有呢？我把图附上
还劳烦您在指导一下，万分感谢。

yanpflove

yangheSDUT 发表于 2024-12-10 10:21
首先感谢大哥的耐心指导，我现在清楚多了。

还有一个疑问希望能得到您的指导，我描述一下，我们现在正在 ...

我不了解这个特殊电阻。

• 特殊电阻的验证问题，通过design rule文档和DRC/LVS rule file的内容，应该可以了解到怎么来验证。
• 专门的DRC，你既可以分开跑，也可以合起来，也可以文件include，也可以UI include……
• 版图问题，同“1”，通过相关文档，判断给出的layout，是全层次layout，还是只有部分层次的。
• 你这个特殊器件，走了专门申请，layout里也出现了“IP”这一层次，有可能这是一个IP。很多IP，出于保密等商业考量，是不提供全层次的，在mask制版时，由工艺厂或者制版厂进行IP merge。
• 以上问题中需要的信息，应该能在相关文档里看到，建议多翻翻文档，如果文档不全，就联系工艺的支持。
  

yangheSDUT

yanpflove 发表于 2024-12-10 13:50
我不了解这个特殊电阻。

谢谢大佬的耐心回复  在此表示感谢，似乎清晰很多了。