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查看: 579|回复: 6

[讨论] 关于UMC工艺poly有无离子注入的讨论

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发表于 2024-8-13 09:39:25 | 显示全部楼层 |阅读模式
20资产
本人新人,发现T家或者其他工艺中DRC会要求把poly做在N型或者P型的离子注入里,好处是在注入中poly的方块电阻会变小,尤其是外接打孔的部分geng'yao
但在UMC55工艺中发现DRC不会对此有特殊要求,如图可以看出A的poly全部做在N注入中,B的外接打孔处没有N注入,这两组的DRC都可以过。
那么是UMC的工艺制成足够先进,不care这部分的电阻。还是说这里本应该手动添加离子注入,DRC检查有漏洞呢。

AB版图

AB版图


发表于 2024-8-13 10:23:49 | 显示全部楼层
看看工厂提供MOS的PCELL是怎么画的,我的印象中,UMC的PCELL应该是把poly包在N+/P+的注入区域内的。
 楼主| 发表于 2024-8-13 10:23:52 | 显示全部楼层
顶下
发表于 2024-8-13 10:29:18 | 显示全部楼层
 楼主| 发表于 2024-8-13 10:29:25 | 显示全部楼层


tigerclever 发表于 2024-8-13 10:23
看看工厂提供MOS的PCELL是怎么画的,我的印象中,UMC的PCELL应该是把poly包在N+/P+的注入区域内的。 ...


pdk中的器件都有注入,但是如果外接出来连接的话,出来的那部分poly(比如poly打的cont到m1)是需要手动补N+或P+的。
 楼主| 发表于 2024-8-13 13:28:32 | 显示全部楼层
顶顶顶
 楼主| 发表于 2024-8-13 16:40:09 | 显示全部楼层
求大佬驻足解惑
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