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查看: 878|回复: 11

[求助] 关于RFSOI工艺的一些困惑

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发表于 2024-7-9 09:25:06 | 显示全部楼层 |阅读模式

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做之前被告知也是cmos工艺,但是细看下来感觉算是全新的东西了,以前只做过CMOS,对于这种工艺不甚理解,各位大佬有没有这方面的资料,烦请赐教

首先是发现mos类型很多,包括L-gate,T-gate,H-gate等,mos后缀也有-RF这种,而且这种工艺貌似是没有一个大的衬底的,我做的XMC工艺是用一层CCT,M1,M1TXT来连接衬底,这是之前没接触过的做法,以前是直接guardring做bulk端连接衬底,而且这个工艺mos直接彼此绝缘,是否直接不需要guardring了。
新手接触,问题太杂,还望各位大佬不吝赐教
发表于 2024-7-9 09:27:55 | 显示全部楼层
soi和cmos是两种不同的工艺
 楼主| 发表于 2024-7-9 09:29:22 | 显示全部楼层
同时也发现dgnfet—L这个mos同时有P注入和N注入,这是什么做法
 楼主| 发表于 2024-7-9 09:35:15 | 显示全部楼层


Yyq0413 发表于 2024-7-9 09:27
soi和cmos是两种不同的工艺


我目前工艺文件看下来也是完全不一样的
发表于 2024-7-9 09:49:49 | 显示全部楼层
soi每个管子之间的衬底都是隔离的,不能像cmos一样在管子外面打衬底接触,所有是自带衬底的,管子有n有p就是因为有源漏也有衬底
 楼主| 发表于 2024-7-9 09:54:38 | 显示全部楼层


hour_buuu 发表于 2024-7-9 09:49
soi每个管子之间的衬底都是隔离的,不能像cmos一样在管子外面打衬底接触,所有是自带衬底的,管子有n有p就 ...


感谢指教,所以是不是在SOI工艺中不再需要guardring的存在了,版图最终是一个个管子的排列加走线,还有,如果有几个同衬底的mos是不是需要放在一起用标识层layer框起来(xmc提供了PV层把衬底之间隔开)
发表于 2024-7-9 10:27:59 | 显示全部楼层


yurunji 发表于 2024-7-9 09:54
感谢指教,所以是不是在SOI工艺中不再需要guardring的存在了,版图最终是一个个管子的排列加走线,还有, ...


guardring起不到给管子衬底的作用,但是可以用来隔离,版图我觉得比cmos简单,摆管子连线就行了,同衬底的管子用金属连起来就行了,xmc的我没画过不清楚
 楼主| 发表于 2024-7-9 10:43:26 | 显示全部楼层


hour_buuu 发表于 2024-7-9 10:27
guardring起不到给管子衬底的作用,但是可以用来隔离,版图我觉得比cmos简单,摆管子连线就行了,同衬底 ...


了解了,是在感谢~~
发表于 2024-7-9 14:04:19 | 显示全部楼层
这种soi工艺的是不是没有latchup了?
 楼主| 发表于 2024-7-9 17:44:02 | 显示全部楼层


happy_star 发表于 2024-7-9 14:04
这种soi工艺的是不是没有latchup了?


看工艺剖面图彼此是绝缘的,应该是不会有latchup

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