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[求助] 高压管n阱与sub p阱为什么不能接触

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发表于 2023-12-19 17:33:18 | 显示全部楼层


이지은 发表于 2023-12-19 17:04
别误导人家。。。nwell也是在p+sub上做的


pw和psub是一个东西?
发表于 2023-12-20 09:19:45 | 显示全部楼层


XXHHJJ 发表于 2023-12-19 17:33
pw和psub是一个东西?


您看得懂吗,我说的是整个区域都是在p+sub上,nwell是在p+sub上做的,pwell也是在p+sub上做的,针对不同工艺,有的pwell浓度是直接和p+sub公用p,而还有工艺是需要单独做Pwell这个井的,是需要自己画pwell的,您懂吗?所以说您不要以偏概全,直接来个定论,除了nwell就是pwell。
发表于 2023-12-20 09:27:18 | 显示全部楼层


이지은 发表于 2023-12-20 09:19
您看得懂吗,我说的是整个区域都是在p+sub上,nwell是在p+sub上做的,pwell也是在p+sub上做的,针对不同 ...


你说的我知道,现在主流工艺哪个不是只画NW,PW的MASK就是NW取反;还有如果没有DNW,PW的电位就是PSUB电位,就算有DNW那裸露出来的PSUB也是由DNW外的PW电位提供,不管浓度差别。别说懂不懂的恶心人
发表于 2023-12-20 09:56:28 | 显示全部楼层
p+sub底和mos的sub端不是一个东西,还PW就是psub电位,pwell那是mos的body/sub端电位,我们是在整个p+sub上EPI里挖nw和pw,PW和P+sub一个电位,那就离谱了,我去做nmos的b接s那等于白做,反正b都是和p+sub一个电位的么,反正nmos的pwell就是和p+sub接一起么,所有nmos全接地嘛,多简单。。。。
screenshot-20231220-095145.png
发表于 2023-12-20 10:11:26 | 显示全部楼层


이지은 发表于 2023-12-20 09:56
p+sub底和mos的sub端不是一个东西,还PW就是psub电位,pwell那是mos的body/sub端电位,我们是在整个p+sub上 ...


PSUB是基底我不知道?就问你没有dnw的情况,两块NMOS的衬底接不同电位你看能不能过LVS,给不给你报软连??
发表于 2023-12-20 11:47:11 | 显示全部楼层
本帖最后由 이지은 于 2023-12-20 11:48 编辑


XXHHJJ 发表于 2023-12-20 10:11
PSUB是基底我不知道?就问你没有dnw的情况,两块NMOS的衬底接不同电位你看能不能过LVS,给不给你报软连? ...


你是真犟啊,自己没见过,就认为自己认为的,学学电路,多看看书,衬底电位不一定是接地,我需要特殊工作区,Vgs-Vth无法满足,我就需要从Vb下手,抬高或拉负值。
screenshot-20231220-114812.png
发表于 2023-12-20 11:59:06 | 显示全部楼层


XXHHJJ 发表于 2023-12-20 10:11
PSUB是基底我不知道?就问你没有dnw的情况,两块NMOS的衬底接不同电位你看能不能过LVS,给不给你报软连? ...


而且,开始就不是说这个点,说的是给结论说严谨点,当然你说的DNW是没问题,部分的well(P-sub)会通过wafer的p-sub short在一起,需要DNW隔离噪声,同样也是只针对部分工艺,不巧的就是我刚好在做需要PWmask的工艺,底下的小朋友就拿着你的这个结论不明白。
发表于 2023-12-20 15:09:34 | 显示全部楼层


이지은 发表于 2023-12-20 11:59
而且,开始就不是说这个点,说的是给结论说严谨点,当然你说的DNW是没问题,部分的well(P-sub)会通过wa ...


啊?自衬的管子我没见过?不用DNW隔开?你说的PW MASK工艺不是特殊工艺?我后面说的是常规主流工艺好吗 不跟你扯咯
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