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[资料] 台积电20nm工艺的SRAM面积

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发表于 2023-11-15 15:22:43 | 显示全部楼层 |阅读模式

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看到一篇台积电2013年在ISSCC上发表的一篇文章,介绍了其20nm高K工艺下,SRAM的面积。

A 20nm 112Mb SRAM in High-κ Metal-Gate with Assist Circuitry for Low-Leakage and Low-VMIN Applications

bitcell面积是0.081um^2;

                               
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一个112Mb的SRAM,由448个小规模的268Kb的SRAM构成,总面积是40.3mm^2;
算下来,1Mb的SRAM面积差不多是0.35mm^2;

                               
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可以看到,1Mb的SRAM并不是简单地将一个bitcell的面积乘以1M,这里面有很多为了低功耗设计的外围电路。
走线,地址解码也是要占据很大一部分面积。



A 20nm 112Mb SRAM in High-к metal-gate with assist circuitry for low-leakage an.pdf

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发表于 2023-11-15 19:50:46 | 显示全部楼层
kamkan
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