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[求助] 东部工艺1860bd18bd io的画法

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发表于 2023-4-21 17:57:17 | 显示全部楼层 |阅读模式

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求助东部工艺 用elpnp_var1p做esd管子时 怎样围他的ring
发表于 2023-4-21 18:11:18 | 显示全部楼层
不懂帮顶
 楼主| 发表于 2023-4-22 10:38:56 | 显示全部楼层
有大佬对东部工艺有深入了解的吗  求讲解
发表于 2023-4-23 09:12:02 | 显示全部楼层
器件自带ring,不用围其他的,需要注意与其他器件间距比较大,要满足esd及lup规则
 楼主| 发表于 2023-4-24 09:10:56 | 显示全部楼层


powerboy711 发表于 2023-4-23 09:12
器件自带ring,不用围其他的,需要注意与其他器件间距比较大,要满足esd及lup规则 ...


谢谢   
 楼主| 发表于 2023-4-25 09:29:38 | 显示全部楼层


你好,今天我看了一下pdk里的工艺剖面图,他的ring和管子类型是有关连的  如果前缀加上iso 就需要围带有NBL的ring了  之前做过bcd的工艺  一直都是围这样的ring  所以很不理解为什么这里的管子不需要nbl的ring。
发表于 2023-4-25 10:27:25 | 显示全部楼层
本帖最后由 powerboy711 于 2023-4-25 10:29 编辑


Andyou 发表于 2023-4-25 09:29
你好,今天我看了一下pdk里的工艺剖面图,他的ring和管子类型是有关连的  如果前缀加上iso 就需要围带有N ...


其他的管子带ISO,是全隔离结构;这个是PNP,隔离是它基极,eb短接到PIN,C极接GND;在它的外面也可以再做ring环,“是环形的”,只是保护作用不能把它完全隔离,所以拉开间距就可以了,另外nbl并不是ring,他是整块的,在器件下面,看到的ring是阱环
 楼主| 发表于 2023-4-25 15:50:32 | 显示全部楼层


powerboy711 发表于 2023-4-25 10:27
其他的管子带ISO,是全隔离结构;这个是PNP,隔离是它基极,eb短接到PIN,C极接GND;在它的外面也可以再做r ...


图1中蓝色的path是nbl层   图2是pdk里的图片  nbl好像是可以这样包的  不过我还是觉得很奇怪  我觉得你说的很有道理 只是我知识面比较少 有些不能理解 想请教下如何才能更好的围ring  drc文件 要求和pad 接的diff  必须要有pring 和nring 两圈ring 这个三极管的be接一起接pad 所以在drc判定上 需要在围一圈nring 和pring
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发表于 2023-4-25 18:02:22 | 显示全部楼层
本帖最后由 powerboy711 于 2023-4-25 18:11 编辑


Andyou 发表于 2023-4-25 15:50
图1中蓝色的path是nbl层   图2是pdk里的图片  nbl好像是可以这样包的  不过我还是觉得很奇怪  我觉得你说 ...


的确,在drc rule里有LUP 要求lside 和接I/O  N+,NWELL,HVNWEL需要加两个保护环,一个N型接VDD,另一个P型接GND. 但是加环后你跑DRC的时候会发现,接VDD的环和lside 或者接I/O 的N+也是有很大距离要求的,同时NBL画成环形也存在drc问题,如果芯片面积不是主要考虑的因素,完全可以加两个环来保护,效果会更好。如果面积受限可以单纯拉开lside 或者接I/O 的N+与其他N型的距离,也是可以过LUP测试的。

其次,你图中外面的蓝色如果是nbl环的话,看起来宽度挺窄的,nbl应该有最小宽度限制,NBL需要通过nwell或者hvnwell及N+才能接metal

再者,你图中两个esd是接一个PIN的么?如果不是是不允许共N环的,如果是,两个esd为什么没有合一起做个大的呢
发表于 2023-4-25 19:04:48 | 显示全部楼层
不用额外加环,这个管子本来就是现成的ESD结构,调出来直接用就行。
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